計算概要 -Computation Summary-
水素フリーでsp3構造成分が多いDLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜であるta-C(tetrahedral amorphous carbon)膜を成膜する手法のひとつである、フィルタードアーク蒸着(FAD: Filtered Arc Deposition)に関する解析事例です。
Particle-PLUSでは荷電粒子の運動が追跡できるため、炭素イオンが磁場中でどのように移動するかのシミュレーションを行うことができます。 また、熱泳動や抵抗力を考慮した微粒子解析モデルにより、FADで問題視されるドロップレットの挙動を追跡することができます。
項目・・・
a.『モデル概要(荷電粒子)』
b.『電子数密度』
c.『炭素イオン数密度』
d.『基板上の炭素イオン流速』
e.『モデル概要(ドロップレット)』
f.『ドロップレット数密度』
g.『基板上のドロップレット流速』
h.『関連項目(Webリンク)』
i.『ギャラリー』
株式会社ウェーブフロント
営業部
メール:sales@wavefront.co.jp
TEL:045-682-7070