フィールドアーク蒸着


計算概要  -Computation Summary-

水素フリーでsp3構造成分が多いDLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜であるta-C(tetrahedral amorphous carbon)膜を成膜する手法のひとつである、フィルタードアーク蒸着(FAD: Filtered Arc Deposition)に関する解析事例です。

Particle-PLUSでは荷電粒子の運動が追跡できるため、炭素イオンが磁場中でどのように移動するかのシミュレーションを行うことができます。 また、熱泳動や抵抗力を考慮した微粒子解析モデルにより、FADで問題視されるドロップレットの挙動を追跡することができます。

項目・・・


a.『モデル概要(荷電粒子)』

b.『電子数密度』

c.『炭素イオン数密度』

d.『基板上の炭素イオン流速』

e.『モデル概要(ドロップレット)

f.『ドロップレット数密度』

g.『基板上のドロップレット流速』

h.『関連項目(Webリンク)』


i.『ギャラリー』

ダウンロード
電子数密度(時間平均)
FAD_ave_dens_ele.mp4
MP4動画/オーディオファイル 3.3 MB

 


ダウンロード
電子数密度(瞬時値)
FAD_dens_ele.mp4
MP4動画/オーディオファイル 3.2 MB

 


ダウンロード
炭素イオン数密度
FAD_dens_ion.mp4
MP4動画/オーディオファイル 3.0 MB

 


ダウンロード
ドロップレット数密度
FAD_droplet.mp4
MP4動画/オーディオファイル 23.0 MB

 

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