2023/09/25

CCPによるクリーニング処理

計算概要　 -Computation Summary-

代表的なドライエッチング手法のひとつである、CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関する解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速にエッチング率などのシミュレーションを行うことができます。

▣CCPを用いた基板表面クリーニング

項目・・・

a.『モデル概要』

b.『電位』

c.『粒子数密度』

d.『エネルギー分布』

e.『電子流束』

f.『Arイオン流束』

g.『基板表面のクリーニング』

ギャラリー　　－gallery－

動画の再生およびダウンロードが可能です。
※ 動画再生はMP4形式の再生に対応したブラウザのみ可能です。

電子数密度

CCP_dens_e.mp4

MP4動画/オーディオファイル 2.2 MB

Arイオン数密度

CCP_dens_ion.mp4

MP4動画/オーディオファイル 2.2 MB

電位分布

CCP_potential.mp4

MP4動画/オーディオファイル 2.2 MB