自己バイアス効果 -self bias-
プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。
項目・・・
a.『概要』
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i2db93bd9847da769/version/1693290025/image.png)
b.『計算モデル(A)』
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i300cb495ff7cd847/version/1693290778/image.png)
c.『計算モデル(B)』
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i19791ba20c23bb5e/version/1693290850/image.png)
d.『計算モデル(C)』
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/ib95e49bb42dd1142/version/1693290945/image.png)
e.『計算結果:電位』
※サイクル平均
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/ibe7323adb428fe2c/version/1693291075/image.png)
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i5d12f04466d6e813/version/1693291122/image.png)
f.『計算結果:イオン密度』
※サイクル平均
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i102074a8a9e0070d/version/1693291808/image.png)
g.『計算結果:イオンフラックス』
※サイクル平均
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i9176e5eeba52908f/version/1693293016/image.png)
h.『まとめ』
![](https://image.jimcdn.com/app/cms/image/transf/dimension=734x10000:format=png/path/sf4bb499a504a0024/image/i65f1b8789b91e188/version/1693293232/image.png)
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