DCマグネトロンスパッタ

計算概要　 -Computation Summary-

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。 

項目・・・

a.『モデル概要』

b.『cf. マグネトロンスパッタの物理』

c.『中性ガス密度』

d.『静磁場』

e.『プラズマ密度①』

f. 『プラズマ密度②』

g.『電位と電場①』

h.『電位と電場②』

i. 『電子流速』

j. 『イオン流速』

k.『プラズマの温度*』

l. 『プラズマのエネルギー』

m.『表面入射エネルギー』

n.『表面入射イオンの頻度分布』

o.『Tiのエロージョンと数密度』

p.『Tiデポジションレート』

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