計算概要 -Computation Summary-
プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、RFマグネトロンスパッタの解析事例です。 Particle-PLUSは真空チャンバ内のプラズマ解析を得意としており、高速に成膜速度などのシミュレーションを行うことができます。
項目・・・
a.『モデル概要』

b.『磁場とガス密度』

c.『電位と電場』

d.『粒子数と消費電力』

e.『プラズマ密度』

f.『プラズマ温度』

g.『イオン流速』

h.『スパッタリングと成膜』

ギャラリー -gallery-
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※
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【立ち上がりの電子数密度】
【定常状態での電子数密度】
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